ASML Holding ADR Representing
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Dividendes historiques et prévisions
ASML Holding ADR Representing a jusqu'à présent distribué 6,737 $US en 2024. Le prochain dividende sera payé le 14.02.2025
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Questions fréquentes
Quelle est la capitalisation boursière de ASML Holding ADR Representing ?
Quel est le ratio cours/bénéfice (P/E) de ASML Holding ADR Representing ?
Quel est le bénéfice par action (BPA) de ASML Holding ADR Representing ?
Quelles sont les évaluations des analystes et le prix cible de l'action ASML Holding ADR Representing ?
Quel est le chiffre d'affaires de ASML Holding ADR Representing sur les douze derniers mois ?
Quel est l'EBITDA de ASML Holding ADR Representing ?
Quel est le flux de trésorerie disponible de ASML Holding ADR Representing ?
Quel est le bêta à 5 ans de l'action ASML Holding ADR Representing ?
Combien d'employés compte ASML Holding ADR Representing, et à quel secteur d'activité appartient-elle ?
Quel est le flottant des actions de ASML Holding ADR Representing ?
Finances
Capitalisation boursière
264,26 Md $USbêta sur 5 ans
1,61BPA (TTM)
19,72 $USFree Float
393,12 MRatio P/E (TTM)
33,53Recettes (TTM)
26,64 Md $USEBITDA (TTM)
10,23 Md $USCash-flow disponible (TTM)
619,55 M $USCotation
Notes des analystes
L'objectif de prix est de 1 030,82 $US et l'action est analysée par 34 analystes.
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Informations
ASML Holding N.V. est une société holding basée aux Pays-Bas. La Société exerce ses activités par l’intermédiaire de ses filiales aux Pays-Bas, aux États-Unis, en Italie, en France, en Allemagne, au Royaume-Uni, en Irlande, en Belgique, en Corée du Sud, à Taïwan, à Singapour, en Chine, à Hong Kong, au Japon, en Malaisie et en Israël. La société opère par l’intermédiaire d’un segment d’activité qui est engagé dans le développement, la production, la commercialisation, la vente, la mise à niveau et l’entretien des systèmes avancés d’équipement de semi-conducteurs, composé de lithographie, métrologie et systèmes d’inspection. La société propose des systèmes TWINSCAN, équipés d’un système de lithographie avec une lampe au mercure comme source de lumière (i-line), Krypton Fluoride (KrF) et Argon Fluoride (ArF) sources de lumière pour le traitement des wafers pour les environnements de fabrication pour lesquels l’imagerie à une petite résolution est nécessaire. Les systèmes TWINSCAN comprennent également des systèmes de lithographie par immersion (systèmes d’immersion TWINSCAN).
43 000
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